
Munir Ali
专业技能:
1.器件制备:
五年以上洁净室工作经验。
我的研究旨在解决传统中出现的关键和具有挑战性的问题电荷耦合器件。
具有4、6、8英寸芯片制造和测试的实践经验,熟练使用光刻、金属沉积、光学显微镜、ICP等洁净室设备
使用化学转移方法转移/沉积石墨烯/薄膜材料
使用干转移法(PVA/PDMS 冲压)开发不同二维材料(如 MoS2、WSe2、石墨烯、hBN)的异质结构
2.电气和光学测试:
半导体分析仪进行基本电学测试
熟练使用半导体分析仪进行电气测试,例如吉时利 4200 用于动态和静态测试,LCR 仪表用于 C-V 测量
光电探测和光伏物理背景
在调制和脉冲光源照射条件下,不同波长(λ = 400 nm、532 nm、800 nm、1190 nm、2000 nm、10 μm)的光电流测试
光电探测器参数评估和分析
光谱和显微分析,例如(拉曼、SEM、AFM 和 EDX)
学习经历:
博士:浙江大学,信息科学与电子工程学院(2017-2023)专业:电子科学与技术 论文题目:硅基石墨烯电荷耦合像素的载流子输运和倍增的研究
硕士:奎德阿扎姆大学(巴基斯坦) 专业:电气与电子工程 论文题目:使用 Holevo 绑定从量子系统检索信息
学士:旁遮普大学(巴基斯坦),自然科学学院专业:数学和物理
工作经历:
浙江大学-伊利诺伊大学国际学院助教,浙江海宁(2017-2023)
巴基斯坦拉合尔管理与技术大学讲师兼研究助理(2015-2017)
巴基斯坦拉合尔航空技术学院讲师(2013-2015)
伊斯兰堡乌尔都语艺术、科学与技术大学应用物理系客座讲师(2011-2013)
伊斯兰堡奎德阿扎姆大学大学电子系研究助理和助教。(2010-2011)
专著:
1.The Photonic-to-Electronic Conversion Technology
Authors: Du Sichao and Munir Ali
Publisher: Bio-Byword Scientific Publishing Pty. Ltd
Publication Year: 2025
论文:
1. A. Khaliq, X. Zhou, H. Y. Chai, M. Ali, H. Wu, O. Gassab, Sichao Du, et al. Illumination Induced Negative Differential Resistance in InGaAs Avalanche Photodiode. IEEE Access. 2024, 12, 50595-50604. (IF: 3.6, Citations:67, DOI: 10.1109/ACCESS.2024.3383836) (ESI Highly Cited Paper) (ESI Hot Paper)
2.Munir Ali, Muhammad Abid Anwar, Jianhang Lv, Srikrishna Chanakya Bodepudi,Hongwei Guo, Khurram Shahzad, Yunfan Dong, Wei Liu, Xiaochen Wang, AliImran, Huan Hu, Yuda Zhao, Bin Yu, Yang Xu., “Graphene Field-Effect-CoupledDetection of Avalanche Multiplication in Silicon.”, IEEE Trans. Electron Devices.,vol. 70, pp. 2370-2377, 2023. DOI: 10.1109/TED.2023.3262630
3.Munir Ali, Yunfan Dong, Jianhang Lv, Hongwei Guo, Muhammad Abid Anwar, FengTian, Khurram Shahzad, Wei Liu, Bin Yu, Srikrishna Chanakya Bodepudi, Yang Xu.“In-situ Monitoring of Reciprocal Charge Transfer in Graphene-Silicon CCD Pixels”Sensors., 2022, 22(23), 9341. DOI: 10.3390/s22239341
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