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用于红外图像传感器的新型像素结构及制作方法

  • 介绍

本发明涉及一种用于红外图像传感器的新型像素结构,包括步骤:有源区光刻定位;浅沟道处绝缘隔离槽STI形成;N阱和P阱形成;栅极的形成;浅掺杂漏区LDD形成;栅极侧壁形成;新型像素结构的源区和漏区形成;金属连线和钝化层覆盖。本发明采用石墨烯作为光敏材料,因为石墨烯中的热电子散射和倍增作用,以及其零带隙的能带结构,石墨烯材质的光敏材料可以发生光电响应,并且能响应非常宽的波长;本发明以低成本,简化的工艺,优化现有红外图像传感器,使硅CMOS图像传感器的响应波长在近红外拓展至更远,并且使响应波长电致可调。

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