在这项工作中,我们研究了质子和砷离子注入在InGaAsP/InGaAs和InAlGaAs/InGaAs量子阱中诱导的混合。基于不同注入条件和QW势垒材料下的缺陷形成和演化过程,对结果进行了比较和讨论。
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